Платформа предварительного нагрева [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Данные печи предназначены для высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и подложек диаметром до100 мм и могут применяться для различных процессов в условиях как лабораторного, так и мелкосерийного производства [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Загрузка подложек в рабочую [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Печи серии RTP предназначены для проведения процессов в вакууме и в среде инертного газа [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Однокамерная горизонтальная высокотемпературная вакуумная печь для пайки [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Метод: ионное утонение Размер ионного пучка: до 1 мкм Переменное напряжение : 50 эВ - 2 кВ [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Процесс автоматического высокоскоростного монтажа кристаллов методом клеевого соединения заключается в следующем: выводная рамка загружается во входной модуль, затем она поднимается и переносится на рабочий столик по транспортировочной направляющей, на ее поверхность наносится клей с помощью системы дозирования [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] Затем полупроводниковая пластина с кристаллами (чипами) забирается поворотным рычагом из расширительного кольца и приклеивается к выводной рамке [Только для зарегистрированных пользователей. Зарегистрироваться.] По […]


Ответить с цитированием